問答題

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答案： ①SAB 光刻后（photo），刻蝕后（etch）的圖案（特別是小塊區(qū)域）。要確定有完整的包覆（block）住...
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【簡答題】為何在離子注入后， 需要熱處理（ Thermal Anneal）的工藝？
答案：

①為恢復(fù)經(jīng)離子注入后造成的芯片表面損傷；
②使注入離子擴散至適當(dāng)?shù)纳疃龋?br /> ③使注入離子移動到適當(dāng)?shù)木Ц裎恢谩?/p>

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