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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】常用的CVD哪幾種？說(shuō)明各自的優(yōu)缺點(diǎn)以及應(yīng)用領(lǐng)域。
答案：
（1）常壓化學(xué)氣相淀積，這種工藝所需的系統(tǒng)簡(jiǎn)單，反應(yīng)速度快，并特別適于介質(zhì)淀積，但是它的缺點(diǎn)是均勻性較差，氣體消耗量大，...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】雙極型集成電路的工藝流程具體有哪些？
答案：
1、襯底制備；
2、生長(zhǎng)埋層（埋層氧化、光刻、摻雜）；
3、外延生長(zhǎng)；
4、生長(zhǎng)隔離區(qū)（隔...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述直拉法生長(zhǎng)單晶硅的工藝過(guò)程，并說(shuō)明每個(gè)步驟各自有什么作用？
答案：
（1）引晶，可以使熔融硅與籽晶間溫度平衡；
（2）縮頸，是為了消除籽晶原有的缺陷或引晶時(shí)由于溫度變化引起的新生...
（2）縮頸，是為了消除籽晶原有的缺陷或引晶時(shí)由于溫度變化引起的新生...
