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是升高溫度的情況下給摻雜氧化硅加熱，使它發(fā)生流動(dòng)。
是指用金屬薄膜填充通孔，以便在兩金屬層之間形成電連接。
是指穿過(guò)各種介質(zhì)從某一金屬到毗鄰的另一金屬層形成電通路的開(kāi)口。
