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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】什么是氧化工藝？請(qǐng)說(shuō)明氧化工藝為什么需要高溫技術(shù)？
答案：
氧化，即在硅表面形成一氧化層的能力，是硅集成電路制造技術(shù)的基礎(chǔ)及關(guān)鍵因素之一。
室溫下也會(huì)生長(zhǎng)出自然氧化層，但...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】試說(shuō)明CMOS工藝在硅片上形成氧化物的主要方法，以及他們間的本質(zhì)區(qū)別。
答案：
硅片上的氧化物有許多種方法產(chǎn)生：熱生長(zhǎng)和淀積，包括：熱氧化法、CVD、熱分解淀積法、陽(yáng)極氧化法、反應(yīng)濺射法等。
問(wèn)答題
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答案：
步驟：
1）淀積二氧化硅
2）二氧化硅反刻
作用：用來(lái)環(huán)繞多晶硅柵，作為n+和p+源漏注入...
1）淀積二氧化硅
2）二氧化硅反刻
作用：用來(lái)環(huán)繞多晶硅柵，作為n+和p+源漏注入...
