問答題

【簡答題】簡述主要金屬層的制備方法?

答案:

•蒸發(fā)
•濺射
•金屬化學(xué)氣相沉積
•電鍍

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答案: 優(yōu)點(diǎn):
•更低的電阻率
•減少了功耗
•更高的互連線集成密度...
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