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問答題
【簡答題】刻蝕及去PSG的目的是什么？
答案：
刻蝕的目的：去除邊緣的PN結(jié)，防止上下短路而造成的并聯(lián)電阻低。去PSG的目的：去除硅片表面含有磷原子的SIO2層。
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問答題
【簡答題】寫出太陽能電池片的生產(chǎn)工藝制造過程？
答案：
來料檢驗——清洗制絨面——擴散（制P/N結(jié)）——（周邊）刻蝕——PECVD（鍍減反射膜）——絲網(wǎng)印刷（正負電極）——燒結(jié)...
