刻蝕即光刻腐蝕,就是通過光刻將光刻膠進行光刻曝光處理,然后通過其他方式實現(xiàn)腐蝕以處理掉所需除去的部分。
抗蝕劑中的小窗口會由于毛細作用而使得接觸孔不能被有效浸潤、被分解的材料不能被有效從反應區(qū)中清除。
濕法刻蝕首先要用含有可以分解表面薄層的反應物的溶液浸潤刻蝕面;