問答題

【簡答題】氧化的目的是什么?

答案:

利用硅獨有的特性制造薄到幾十埃(只有幾個原子層)的柵氧化層

題目列表

你可能感興趣的試題

問答題

【簡答題】什么是非接觸曝光方式?

答案:

掩膜與晶圓不接觸的光刻方式,分為接近式和投影式兩種

問答題

【簡答題】接觸曝光方式的關(guān)鍵技術(shù)有哪些?它的主要優(yōu)缺點是什么?

答案: 需要一股很粗的光束、一個很大的透鏡,以及一套良好的光學(xué)系統(tǒng);
精確度較高但非理想接觸導(dǎo)致LSI芯片合格率不高,...
微信掃碼免費搜題