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填空題
光學(xué)光刻機(jī)的主要曝光光線的是波長(zhǎng)為（）的g線和（）的i線，適合1微米以上特征尺寸的光刻。常用（）的KrF和（）的ArF準(zhǔn)分子激光做1微米以下特征尺寸的光刻光源。
答案：
436nm；365nm；248nm；193nm
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填空題
光學(xué)光刻機(jī)主要有（）等幾種。非光學(xué)光刻機(jī)主要有（）。
答案：
接觸式、接近式、投影式和分步重復(fù)光刻機(jī)；電子束光刻機(jī)和X射線光刻機(jī)
