A、隔離法 B、鈍化法 C、氧化法 D、清洗法
A、氫脆 B、氫鼓泡 C、氫致開(kāi)裂 D、氫腐蝕
A、0.1%--0.3% B、0.1—0.5% C、0.5%--1.0% D、1.0%--2.0%