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【簡答題】什么是干法刻蝕?什么是濕法刻蝕?比較二者的優(yōu)缺點。
答案:
1)干法腐蝕是應(yīng)用等離子技術(shù)的腐蝕方法,刻蝕氣體在反應(yīng)器中等離子化,與被刻蝕材料反應(yīng)(或濺射),生成物是氣態(tài)物質(zhì),從反應(yīng)...
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【簡答題】光刻的本質(zhì)是什么?
答案:
光刻就是將掩膜版(光刻版)上的幾何圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體襯底表面的對光輻照敏感的薄膜材料(光刻膠)上去的工藝過程。
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【簡答題】最早應(yīng)用在半導(dǎo)體光刻工藝中的光刻膠是哪種膠?
答案:
負光刻膠
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