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【簡答題】什么叫離子刻蝕?它的主要作用是什么?
答案:
在10
-3
Pa的氬氣中將生成的Ar
+
加速至500~1000eV,轟擊樣品表面...
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【簡答題】在能譜分析中對X射線源主要有哪二個(gè)要求?為什么?
答案:
X射線源必須有足夠的能量可產(chǎn)生盡可能多的光電子。其次,X射線的本征寬度ΔEX越小越好,能譜峰的半峰寬會(huì)更窄。
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【簡答題】XPS能譜圖中峰的半峰寬由哪三個(gè)因素決定?各因素的本質(zhì)是什么?
答案:
ΔE=[(ΔX)2+(ΔEL)2+(ΔEA)2]1/2
式中,...
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