- 搜標(biāo)題
- 搜題干
- 搜選項
問答題
【簡答題】電漿輔助VCD系統(tǒng)具有何特色？
答案：
一般CVD均是在高溫的基板下產(chǎn)生沉積反應(yīng)，如果以電漿激發(fā)氣體，即所謂的電漿輔助CVD（Plasma enhanced C...
你可能感興趣的試題
問答題
【簡答題】CVD化學(xué)氣相沉積法反應(yīng)步驟可區(qū)分為幾個步驟？
答案：
（1）不同成份氣相前置反應(yīng)物由主流氣體進(jìn)來，以擴(kuò)散機(jī)制傳輸基板表面。理想狀況下，前置物在基板上的濃度是零，亦即在基板上立...
