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問答題
【簡答題】簡述干氧氧化與濕氧氧化各自的特點，通常用哪種工藝制備較厚的二氧化硅層？
答案：
干氧氧化：（優(yōu)）結構致密，表面平整光亮；對雜質掩蔽能力強；鈍化效果好；生長均勻性、重復性好；表面對光刻膠的粘附好，（缺）...
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問答題
【簡答題】簡述溝道效應的含義及其對離子注入可能造成的影響如何避免？
答案：
對晶體進行離子注入時，當離子注入的方向與與晶體的某個晶向平行時，一些離子將沿溝道運動，受到的核阻止作用很小，而且溝道中的...
問答題
【簡答題】簡述離子注入工藝中退火的主要作用？
答案：
由于離子注入所造成的損傷區(qū)及畸形團，增加了散射中心及陷阱能級，使遷移率和壽命等半導體參數(shù)下降。此外，大部分的離子在被注入...
