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步進(jìn)光刻機(jī)的三個(gè)基本目標(biāo)是對(duì)準(zhǔn)聚焦、曝光和合格產(chǎn)量。
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最早應(yīng)用在半導(dǎo)體光刻工藝中的光刻膠是正性光刻膠。
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