判斷題

步進(jìn)光刻機(jī)的三個(gè)基本目標(biāo)是對(duì)準(zhǔn)聚焦、曝光和合格產(chǎn)量。

答案: 錯(cuò)誤
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沒有CMP,就不可能生產(chǎn)甚大規(guī)模集成電路芯片。

答案: 錯(cuò)誤
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