首頁
題庫
網課
在線???/a>
桌面端
登錄
搜標題
搜題干
搜選項
0
/ 200字
搜索
填空題
目前常用的CVD系統(tǒng)有()、()和()。
答案:
APCVD;LPCVD;PECVD
點擊查看答案
手機看題
你可能感興趣的試題
填空題
立式爐的工藝腔或爐管是對硅片加熱的場所,它由垂直的()、()和()組成。
答案:
石英工藝腔;加熱器;石英舟
點擊查看答案
手機看題
填空題
硅片上的氧化物主要通過()和()的方法產生,由于硅片表面非常平整,使得產生的氧化物主要為層狀結構,所以又稱為()。
答案:
熱生長;淀積;薄膜
點擊查看答案
手機看題
微信掃碼免費搜題