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多項選擇題
按曝光的光源分類,曝光可以分為()。
A.光學曝光
B.離子束曝光
C.接近式曝光
D.電子束曝光
E.投影式曝光
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單項選擇題
在VLSI工藝中,常用的前烘方法是()。
A.熱空氣對流法
B.真空熱平板傳導法
C.紅外線輻射法
D.射頻感應加熱法
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單項選擇題
涂膠以后的晶片,需要在一定的溫度下進行烘烤,這一步驟稱為()。
A.后烘
B.去水烘烤
C.軟烤
D.烘烤
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