Si-SiO2界面電荷有哪幾種?簡述其來源及處理辦法。
一片硅片由0.3um厚的SiO2薄膜覆蓋。所需數(shù)據(jù)見下表,玻爾茲曼常數(shù)k=1.38×10-23。(1)在1200℃下,采用H2O氧化,使厚度增加0.5um需要多少時間?。(2)在1200℃下,采用干氧氧化,增加同樣的厚度需要多少時間?