問(wèn)答題

【論述題】分別簡(jiǎn)述RVD和GILD的原理，它們的優(yōu)缺點(diǎn)及應(yīng)用方向。

答案： 快速氣相摻雜（RVD，RapidVapor-phaseDoping）利用快速熱處理過(guò)程（RTP）將處在摻雜劑氣氛中的硅片...
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