首頁
題庫
網(wǎng)課
在線模考
桌面端
登錄
搜標(biāo)題
搜題干
搜選項
0
/ 200字
搜索
名詞解釋
化學(xué)機(jī)械平坦化(CMP)
答案:
也稱為化學(xué)機(jī)械拋光CMP是通過化學(xué)反應(yīng)和機(jī)械研磨相結(jié)合的方法對表面起伏的硅片進(jìn)行平坦化的過程。
點擊查看答案
在線練習(xí)
手機(jī)看題
你可能感興趣的試題
問答題
【簡答題】簡述什么是硅化物及其作用。
答案:
硅化物是在高溫下難熔金屬(通常是鈦Ti、鈷Co)與硅反應(yīng)形成的金屬化合物(如TiSi
2
、CoSi<...
點擊查看答案
手機(jī)看題
問答題
【簡答題】簡述銅互連的優(yōu)點及采取的工藝措施。
答案:
優(yōu)點:①電阻率更低;②電流密度高:抗電遷徙能力好于鋁,銅合金中加入Al或Ti進(jìn)一步增強(qiáng)抗電遷移;③更少的工藝步驟:采用大...
點擊查看答案
手機(jī)看題
微信掃碼免費搜題