首頁
題庫
網(wǎng)課
在線模考
桌面端
登錄
搜標(biāo)題
搜題干
搜選項(xiàng)
0
/ 200字
搜索
判斷題
LPCVD系統(tǒng)中淀積速率是受表面反應(yīng)控制的,APCVD系統(tǒng)中淀積速率受質(zhì)量輸運(yùn)控制。
答案:
正確
點(diǎn)擊查看答案解析
手機(jī)看題
你可能感興趣的試題
判斷題
實(shí)現(xiàn)對CVD淀積多晶硅摻雜主要有三種工藝:擴(kuò)散、離子注入、原位摻雜。由于原位摻雜比較簡單,所以被廣泛采用。
答案:
錯(cuò)誤
點(diǎn)擊查看答案解析
手機(jī)看題
判斷題
CVD系統(tǒng)包括熱壁式CVD系統(tǒng)和冷壁式CVD系統(tǒng),在冷壁式CVD系統(tǒng)中側(cè)壁溫度與沉底溫度相等。
答案:
錯(cuò)誤
點(diǎn)擊查看答案解析
手機(jī)看題
微信掃碼免費(fèi)搜題